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河北促销亮晶晶1吨反渗透纯水设备 抛光混床制取设备 纳滤设备
一、高纯水制取设备系统/混合离子交换器/抛光混床制水设备概述:
高纯水制取设备通常由多介质过滤器,活性碳过滤器、钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI 电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均 设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人值守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使该设备与其它同类产品相比较,具有高的性价比和设备可靠性。
抛光混床一般用于水处理系统末端,来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。抛光混床纯水设备树脂出厂的离子型态都是H、OH型,装填后及可使用无需再生。一般用于半导体行业。
为获得电子、医药或其他行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2 MΩ?cm)的理论纯水,在普通混床或EDI净水设备后,通常还装设抛光混床进行终的精处理。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物,由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离,不能用酸碱将它们分别再生,所以这种抛光树脂失效后,弃之不用
二、高纯水制取设备系统/混合离子交换器/抛光混床制水设备参数:
1、用于生产≥18.2mΩ.cm以上超纯水,一般与反渗透离子交换器,EDI装置等配套使用,用水系统一般设计为循环管路,以使用水点保持新鲜,合格状态,避免死水出现。
2、主要用干电子、半导体、太阳能电池板等行业。
3、双极RO+EDI出水水质电阻率达到≥16 mΩ.cm
4、双极RO+EDI抛光混床出水电阻达到≥18.2 mΩ.cm
三、高纯水制取设备系统/混合离子交换器/抛光混床制水设备特点:
1、制取电子级超纯水
2、可连续自动生产,不必停机再生
3、运行成本低,占地面积小
UF超滤+RO反渗透+EDI电除盐水处理系统
详情说明
一、UF超滤+反渗透+电除盐水处理系统说明:
UF+RO+EDI设备为含有超滤设备,微滤设备,反渗透设备,EDI设备等。该工艺是将超滤、微滤、反渗透、EDI等不同的膜工艺组合在一起,可以去除污染物及深度脱盐的水处理工艺。全膜法超纯水设备出水可直接满足用户的用水需求,该工艺已成功应用于电力、冶金、石化等多个领域。
二、UF超滤+反渗透+电除盐水处理系统工艺特点:
超纯水设备工艺的关键技术EDI系电渗析(ED)和离子交换技术(DI)有机结合,达到连续除盐、运行维护简单、无酸碱排放污染。在膜处理系统中,用做前处理的超滤一般使用直径1mm的中空纤维,以脱除原水中的悬浮物及胶体,UF用作前处理的大问题是膜污染及膜孔堵塞,为此常在前面设置预过滤器,以去除大粒径悬浮物,在预过滤前加絮凝剂,如PAC(聚丙稀酸)可提高过滤水质,并降低膜阻力。对电厂锅炉补给水系统要求的溶氧量一般要求为0.3 mg/L以下,为此脱气膜应该在低于5.33Kpa(40TORR)的真空度下操作。控制系统采用工控机程控控制,可实现自动起停,加药及冲洗,自动监测各种运行参数,以便生产管理。
三、UF超滤+反渗透+电除盐水处理系统制取工艺:
1、采用离子交换方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
2、采用反渗透+混床方式,其流程如下:
自来水管网→原水泵→絮凝加药→机械滤器→活性碳滤器→阻垢加药→保安过滤器→高压泵→反渗透装置→中间水箱→混床泵→混床装置→精密滤器→除盐水箱
3、采用EDI方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点 制取工艺比较
四、UF超滤+反渗透+电除盐水处理系统适用范围:
1、用于热电厂及大中型工矿企业锅炉补给水的处理 。
2、采用世界上先进的反渗透膜元件,压力容器等设备,配以合理而又有前处理和后处理设备,能生产 符合国家或行业锅炉给水标准(GB1576-79、DL/T561-95) 超纯水。
3、在膜处理系统中,用做前处理的超滤一般使用直径1mm的中空纤维,以脱除原水中的悬浮物及胶体,UF用作前处理的大问题是膜污染及膜孔堵塞,为此常在前面设置预过滤器,以去除大粒径悬浮物,在预过滤前加絮凝剂,如PAC(聚丙稀酸)可提高过滤水质,并降低膜阻力。
4、对电厂锅炉补给水系统要求的溶氧量一般要求为0.3 mg/L以下,为此脱气膜应该在低于5.33Kpa(40TORR)的真空度下操作。
5、控制系统采用工控机程控控制,可实现自动起停,加药及冲洗,自动监测各种运行参数,以便生产管理。
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